Leave Your Message

Progresul acoperirii

Proces tipic de acoperire PVD (7 pași)

01

Încărcare

Încărcați sistemul de probă în camera de acoperire.
Încărcare
02

Pompare în vid

La depunerea acoperirilor PVD, este necesar un vid ridicat. Sistemul de acoperire Huasheng se desfășoară în doi pași: Mai întâi, pompa mecanică reduce presiunea camerei de vid de la 1000 mbar la 10⁻¹ mbar; Apoi, pompa turbomoleculară generează un vid ridicat de aproximativ 1X10⁻⁶m bar.
Pompare în vid
03

Încălzire

Încălziți camera la aproximativ 500 ℃, care este temperatura convențională de proces.
Încălzire
04

Gravare cu plasmă

Sistemul de acoperire Huasheng utilizează trei tehnologii diferite de gravare: HUASHENG® (descărcare luminescentă laterală); gravare cu plasmă de argon, descărcare luminescentă; gravare cu ioni metalici (Ti+, Cr+).
Răcire
05

Depunere

Depunerea de acoperire se realizează utilizând PVD (placare cu arc ionic, pulverizare magnetronică sau tehnologie HUASHENG® cu catod integrat).
Încălzire
06

Răcire

Răciți camera de acoperire.
Pompare în vid
07

Descărcare

Descărcați sistemul de probă din camera de acoperire.
Descărcare
01020304050607
01

Procesul 1

02

Procesul 2

03

Procesul 3

04

Procesul 4

05

Procesul 5

06

Procesul 6

07

Procesul 7