HUASHENG oferă sisteme industriale de acoperire CVD pentru depunerea de acoperiri TiC/TiN, TiCN, α-Al₂O₃ și κ-Al₂O₃. Încălzirea în cinci zone și configurațiile reactorului orientate spre producție permit procesarea stabilă în loturi pentru plăcuțe din carbură, scule așchietoare, matrițe și componente de uzură selectate.
Alegeți modelul 530L pentru loturi flexibile de 400 kg sau modelul 560L pentru o producție de capacitate mai mare, de până la 480 kg.
Ce este un sistem de acoperire CVD?
Un sistem de acoperire CVD introduce gaze de proces controlate într-un reactor încălzit. Gazele reacționează la suprafața substratului și formează o acoperire solidă densă. Deoarece reacția are loc în fază gazoasă, CVD poate oferi o acoperire bună pe geometrii complexe ale sculelor și o legătură puternică cu substratul. Pentru sculele așchietoare, CVD este utilizat în mod obișnuit pentru a construi structuri multistrat care combină materiale rezistente la uzură și rezistente la căldură. Straturile de TiC și TiCN oferă duritate și rezistență la uzură, în timp ce straturile de Al₂O₃ îmbunătățesc protecția termică în timpul tăierii continue și de mare viteză.
Încălzire cu cinci zone
Cinci zone de încălzire susțin distribuția termică controlată de-a lungul reactorului și ajută la menținerea unor condiții stabile de acoperire pentru loturile de producție.
Capacitate industrială a lotului
Capacitățile maxime de încărcare de 400 kg și 480 kg acoperă cerințele de producție pentru volume medii și mari.
Structuri multiple de acoperire
Sistemele acceptă TiC/TiN, TiCN și două faze Al₂O₃, permițând selectarea procesului pentru diferite condiții de tăiere și uzură.
Suport pentru procese și servicii
Asistența tehnică acoperă selecția echipamentelor, consultanța în procese, instalarea, instruirea, piesele de schimb și depanarea de la distanță.
De ce Huasheng?
-
15+ ani
Expertiză tehnică
Cu peste 15 ani de experiență tehnică, Huasheng se concentrează pe cercetare și dezvoltare, fabricarea și aplicarea echipamentelor și proceselor de acoperire în vid. -
120+
Drepturi de proprietate intelectuală
Huasheng continuă să își consolideze capacitățile independente de cercetare și dezvoltare, cu peste 120 de drepturi de proprietate intelectuală care susțin inovarea echipamentelor de acoperire și dezvoltarea proceselor. -
Peste 30.000 m²
Centru de producție
Un centru de producție și fabricație la scară largă susține asamblarea echipamentelor, controlul calității, capacitatea de livrare și serviciul clienți pe termen lung. -
Peste 150 de seturi
Echipamente PVD avansate
Huasheng operează ca producător original cu peste 150 de seturi de echipamente PVD avansate, sprijinind validarea proceselor de acoperire și dezvoltarea aplicațiilor industriale.
La ce se utilizează sistemele de acoperire CVD?
Acestea sunt utilizate în principal pentru depunerea de acoperiri ceramice dure pe scule așchietoare din carbură, plăcuțe, matrițe și componente industriale de uzură.
Ce acoperiri pot produce sistemele ANC CVD?
Tipurile de acoperire specificate sunt TiC/TiN, TiCN, α-Al₂O₃ și κ-Al₂O₃.
Care este intervalul de temperatură de acoperire?
Atât 530L, cât și 560L au un interval specificat de temperatură de acoperire de la 700°C la 1050°C.
Care este diferența dintre 530L și 560L?
530L are un reactor de 530 × 1600 mm și o sarcină maximă de 400 kg. 560L are un reactor de 560 × 1600 mm și crește sarcina maximă la 480 kg.
Sunt aceste mașini CVD potrivite pentru plăcuțe din carbură?
Da. Tipurile de acoperire disponibile și configurația de producție sunt potrivite pentru plăcuțele așchietoare din carbură, în funcție de gradul de carbură, geometria sculei și specificațiile de acoperire.
Cum aleg mașina de acoperire CVD corectă?
Furnizați tipul sculei, gradul de material, dimensiunile, cantitatea lotului, acoperirea necesară și producția anuală. Aceste detalii determină reactorul necesar, capacitatea de încărcare și configurația procesului.
Poate fi personalizat procesul de acoperire?
Da. Structura acoperirii și configurația echipamentului pot fi evaluate în funcție de substrat, mecanismul de uzură, aplicația de prelucrare și obiectivul de performanță.